rancang bangun dananalisis alat pelapisan - Digilib

SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGY AKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
Daftar Isi
RANCANG BANGUN DAN ANALISIS ALAT PELAPISAN TEMBAGA
MENGGUNAKAN TEKNIK ELEKTROPLATING
Budi Suhendro(l), Tri Laela DS
(1)
Suyamto(2)
(I)Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir (STTN)
(2)Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan (PT APB)
Badan Tenaga Nuklir Nasional
11.Babarsari P.O.Box 6101 YKBB Yogyakarta 55281
ABSTRAK
RANCANG BANGUN DAN ANALISIS ALAT PELAPISAN
TEMBAGA MENGGUNAKAN
TEKNIK
ELEKTROPLATING.
Elektroplating merupakan salah satu proses finishing yang digunakan untuk
menanggulangi terjadinya korosi permukaan logam karena proses oksidasi. Logam yang dilapisi adalah
Aluminium karena jumlahnya yang melimpah dan paling banyak digunakan. Elef..1rolit yang digunakan
adalah CuSO 4 yang diencerkan dengan air dengan perbandingan 1 kg dilarutkan ke dalam air 12 liter.
Anoda dari plat tembaga dengan ukuran 6 x 30 em, katoda digunakan sebagai barrel dengan daya tampung
6 benda kerja. Pelaksanaan pelapisan dilakukan dengan variasi arus yang diatur dengan resistor 0; 2,7, 5,6,
dan 15 0. Variasi tegangan dilakukan dengan mengubah step trafo 12, 18, dan 25 V, waktu pelapisan
divariasi 15; 30;, 45 dan 60 men it. Alat yang dibuat memiliki waktu pakai selama 5 jam pelapisan tanpa
henti. Dari percobaan diketahui bahwa dengan variasi arus dihasilkan deposit yang paling banyak
dibandingkan dengan varisasi tegangan, sedangkan dengan waktu yang lebih lama akan dihasilkan deposit
yang lebih banyak tergantung ketersediaan dari ion Cu2+ di dalam larutan.
Kata kunci : Elektroplating, variasi arus, tegangan, waktu
ABSTRACT
DESIGN NAD ANALYSISN
OF COPPER METAL COATING TOOL USING ELECTROPLATING
TECHNIC. Electroplating is a finishing process used to cope with the occurrence of slllface corrosion due
to oxidation processes. Alumunim is a subject to be coated because they are readily available and most
widely used. Electrolytes used were 1 kg of CUS04 dissolved into 12 liters of water. Anodes made of the
copper plate with a size of 6 x 30 em, the cathode is used as a barrel with capacity 6 workpieces. The
implementation of the coating is done by adjusting electricity current using 0, 2.7 ohms, 5.6 ohms and 15
ohms variable resistors. Voltage variations is peiformed by changing the tap voltage transformer of 12, 18,
25 volt. Duration of electroplating proces is carried out by changing the coating time of 15; 30; 45 and 60
minutes. The device that have been made has a life time of 5 hours coating continously without stop. From
the experiment it is known that by current variation obtined the most widely deposits compared with
varisasi voltage, whereas with a longer time will be got more deposit depending on the availability
of Cu 2 + ions in solution.
Key word : Electroplating, current, voltage, time variations
1. PENDAHULUAN
Pada pemakaian logam sering timbul masalah
seperti korosi, kurang menarik, kurang kuat dan
sebagainya. Tetapi yang paling menonjol adalah
masalah korosi. Hal ini terjadi karena adanya proses
oksidasi antara logam yang digunakan baik di
lingkungan yang lembab, panas dan air asin. Bila
korosi timbul dapat menjadikan kekuatan logam
yang dipakai melemah. Untuk itu banyak dilakukan
Budi Suhendro dkk
finishing terutama untuk logam-logam yang mudah
mengalami korosi. Salah satu teknik finishing dan
teknik penanggulangan korosi adalah dengan teknik
elektroplating.
Diharapkan
dengan
dipakainya
teknik elektroplating
kekuatan dan ketahanan
material terhadap korosi akan bertambah. Manfaat
lain dari teknik elektroplating adalah masalah
estetika dan harga jual dari logam yang telah di lapis
akan menjadi lebih baik. Dalam percobaan urn yang
sering dilakukan, pelapisan logam dilakukan dengan
611
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGY AKART A, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
Pelapisan secara listrik atau elektroplating
adalah elektrodeposisi pelapisan (coating) logam
melekat ke elektroda untuk menjaga substrat dengan
memberikan sifat dan dimensi berbeda dari pada
logam basisnya [I]. Pada sistem elektrokimia cairan
elektrolit bila diberi tegangan akan terjadi elektrolisa
dan ion-ion akan bergerak menuju elektrode. Kation
akan menuju katoda sedangkan anion menuju anoda.
Hukum yang berkaitan
dengan massa yang
terbnetuk dalam elektroplating adalah[ I,~] :
1. Hukum Faraday I
Pada hukum Faraday tersebut dijelaskan
bahwa massa zat yang terbentuk pada masingmasing elektroda sebanding
dengan kuat
arus/arus listrik yang mengalir pad a elektrolisis
tersebut [~J. Secara matematis dapat ditulis
sebagai Persamaan (1).
sangat
sederhana
salah
satunya
dengan
menggunakan sumber tegangan dari baterai dan
dirasa kurang efektif karena umur pakai yang terIalu
singkat, tegangannya tidak dapat diatur dan dayanya
terbatas. Dengan demikian pemakaian sumber
tegangan bolak-balik
dari PLN untuk catu daya
elektroplating sangat diperlukan karena akan lebih
efektif. Salah satu tujuan dari "Rancang Bangun dan
Analisis Alat Pelapisan Tembaga Menggunakan
Teknik Elektroplating" adalah untuk mengetahui
hubungan antara hasil pelapisan dengan tegangan,
arus dan waktu pelapisan yang diberikan.
Peralatan yang dirancang menggunakan catu
daya arus bolak-balik (Ae) kemudian DC, larutan
pelapis yang digunakan adalah Tembaga SuI fat
(CUS04) teknis, dan pengujian dilakukan dengan
memvariasikan tegangan, arus, dan waktu.
A q
eit
m=_r_=_
2. DASAR TEORI
nF
(1)
F
udara
""
...••
~
""001.
Katocta
a..,.utan IEJttetrolit
Gambar I. Skema pelapisan secara elektroplating
Faktor-faktor
yang Mempengaruhi
Keandalan Elektroplating [4J
Konsentrasi
Keberhasilan
di
dalam
larutan
mempengaruhi
mobilitas ion dan konduktivitas
larutan juga.
Agitasi
adalah proses pengadukan
yang
dimaksudkan untuk menghindari bentuk struktur
dan ketebalan lapisan yang tidak seragam. Di
samping itu juga bertujuan untuk pengisian kembali
ion-ion logam yang berkurang di dekat katoda atau
benda kerja, mencegah terjadinya gelembung udara
pada bagian permukaan benda kerja.
Nilai pH diperIukan untuk mengontrol larutan
elektroplating.agar
kemampuan larutan elektrolit
dalam menghasilkan lapisan tetap baik.
Pasivitas merupakan lapisan pasif pengotor
pada logam seperti korosi dan minyak yang
menempel pada logam dan bila terdapat pada anoda,
ion-ion logam pelapis terus menu run sehingga akan
mengganggu proses pelapisan.
Waktu
pelapisan
sangat
mempengaruhi
ketebalan lapisan yang diinginkan, semakin lama
waktu pelapisan akan dihasilkan lapisan yang
semakin tebal [4,5].
Banyak faktor yang mempengaruhi keandalan
elektroplating antara lain adalah suhu larutan saat
proses, arus yang mengalir pada elektrode,
konsentrasi
larutan, agitasi, nilai pH larutan,
pasivitas, dan lamanya pelapisan.
Suhu larutan pada saat pelapisan berIangsung
harus dijaga stabil agar pelapisan dapat lebih
sempuma karena bila suhu naik terIalu tinggi akan
menyebabkan naiknya konduktititas dan difusitas
larutan
elektrolit.
Akibatnya
adalah
tahanan
elektrolit akan mengecil sehingga kemampuan untuk
mereduksi ion-ion logam berkurang. Besamay suhu
larutan saat proses ditentukan oleh beberapa faktor
antara lain jarak anoda dan katoda dan arus yang
digunakan.
Kerapatan
arus
ke
elektroda
sangat
mempengaruhi lama pelapisan sampai ketebalan
tertentu. Arus listrik diperIukan untuk mendapatkan
atom-atom logam pada tiap satuan luas permukaan
benda kerja yang akan dilapis.
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN
ion
612
Budi Suhendro dkk
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGl
NUKLlR
YOGY AKARTA,
ISSN 1978-0176
VII
16 NOVEMBER
2011
3. PEMBUATAN ALAT DAN METODOLOGI
PENGUJIAN
Bahan Pelapis Dalam Proses Elektroplating
Tembaga
banyak
digunakan
untuk
pelapisan
karena dapat menutup permukaan
bahan
yang dilapis dengan baik dan mempunyai
daya
tembus
yang tinggi.
Namun
pelapisan
dengan
tembaga pada umumnya
masih belum memuaskan
sehingga diperlukan
pelapisan lanjut menggunakan
bahan nikel, kemudian
dilakukan
pelapisan
akhir
menggunakan
khrom. [4].
I
lransfonnalor
rl
penyearah
3.1 Pembuatanan
alat
Perlatan
pada penelitian
ini terdiri dari 3
bagian yaitu bagian eatu daya, beban pelapisan dan
alat
penunjang.
Catu
daya
yang
digunakan
ditunjukkan
pada
blok
diagram
Gambar
2,
sedangkan rangkaian ditujukkan pada Gambar 3 dan
4
ok ~
slahiliser
variabel
resistor
~
71512
cr-..I';H{IF
C ..=IOtJnF
Gambar 3. Catu daya dengan stabiliser IC 7812
0••••
Gambar
3. Catu daya dengan stabiliser
Catu daya pada Gambar
3 menggunakan
stabiliser IC 7812 untuk meneatu rangkaian pewaktu
(timer) dan motor penggerak
agitator (barrel),
sedangkan
pada Gambar
4 digunakan
stabiliser
transistor
untuk
meneatu
beban
pelapisan
yang
memerlukan
arus besar yaitu 0 sampai dengan 10
amper.
Variabel resistor digunakan
untuk mengatur
arus yang masuk ke beban yang dalam enelitian ini
ditentukan 4 buah yaitu Ro (0 % watt), RJ (2,7.Q
/1 0 watt), R~ (5,6.Q /20 watt) dan ~ (150/20
watt.
Beban
pelapisan
berupa plat anoda dan
katoda yang diletakkan
di dalam bak penampung
larutan
elektrolit
dengan
volume
total dari bak
pelapisan terse but adalah 41 liter dan alat penunjang
yang terdiri dari pengaduk, pewaktu, pemanas, dan
Budi Suhendro dkk
dari transistor
alat ukur. Dalam raneangan
ini bahan anoda dari
tembaga karena mempunyai konduktivitas
yang baik
dengan ukuran 30 x 6 em. Sebagai katoda dibuat
dari aluminium (AI) karena beberapa
pertimbangan
antara lain karena sebagi penghantar
listrik dan
panas yang baik, ringan, tidak bersifat magnetik,
mudah dibentuk,
banyak dipakai untuk berbagai
keperluan, tahan korosi, banyak terdapat di pasaran,
harganya murah dan sebagainya.
Katoda AI dibuat
dengan ukuran 2 x 7 em sebanyak 5 buah diikat
pada barrel atau pen gad uk. Sebagai bahan pelapis
digunakan
larutan
a5am sui fat yang dieneerkan
dengan
konsentrasi
1 kg dalam
12 liter
air
(CuS045H~O),
dan
bak
pelapisan
berikut
pengaduknya
(barrel) ditunjukkan pada Gambar 5.
613
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA,16NOVEMBER2011
ISSN 1978-0176
(a)
(b)
Gambar 5. (a) Bak pelapis dan (b) Barrel
Alat penunjang
antara lain terdiri dari
pewaktu (timer), pemanas (heater) serta alat ukur
tegangan dan arus. Untuk pewaktu digunakan
Omron H3BA-8
dan untuk pembatas
suhu
digunakan termostat KSD 302 250V /1 OA, lihat
Gambar 6.
(a)
(b)
Gambar 6. (a) Pewaktu Omron H3BA-8, (b) Termostat KSD 302 250V/10A
3.2 Metode Percobaan
Dalam penelitian ini, setelah perangkat keras selesai
dibuat
dilakukan
langkah-Iangkah
percobaan
sebagai berikut :
1. Persiapan bahan yang akan dilapis meliputi
pemotongan bahan AI yang akan dilapis,
pemolesan,
penimbangan
bahan
dan
pembersian secara kimiawi dengan dicelum
ke dalam asam nitrat
2. Proses elektroplating menggunakan asam
sui fat yang telah diencerkan kemudian,
dilakukan pencatuan daya ke elektode
dengan mevariasi arus, tegangan dan
waktu.
a. Variasi
arus
dilakukan
dengan
mengubah nilai resistor pada tegangan
tetap sebesar 18 V dan waktu
pelapisan 30 menit.
b. Variasi tegangan dilakukan dengan
mengubah tap tegangan keluaran trafo
dari 12, 18, 25, dan 32 V dan waktu
pelapisan tetap yaitu 30 menit.
c. Variasi waktu pelapisan dilakukan
dengan waktu pelapisan 15, 30, 45,
dan
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN
3.
d. udara pada bagian permukaan benda kerja,
dan menghindari penumpukan 60 menit
pada tegangan dan arus tetap yaitu 18 V
dan 2,5 amper.
Pada setiap kali satu percobaan pelapisan
selesai, harus diberi jeda waktu sebelum
dilakukan
percobaan
berikutnya.
Hal III I
bertujuan
untuk
memberikan
kesempatan
kepada ion-ion Cu2+ menempel kepada benda
uji, agar terjadi pengisian kembali ion-ion
logam yang berkurang di dekat bendua kerja,
mencegah terjadinya gelembung udara pada
bagian
permukaan
benda
kerja,
dan
menghindari penumpukan ion-ion logam dalam
larutan.ion-ion logam dalam larutan sehingga
konsentrasi ion dapat tersebar secara merata.
Tahap akhir yaitu pencucian, pengeringan. dan
penimbangan bahan
4. HASIL DAN PEMBAHASAN
Peralatan yang dibuat dapat dioperasikan
dengan baik, hasil pengujian meliputi 3 hal yaitu
pengujian dengan variasi arus, tegangan, dan waktu.
Pada setiap percabaan percobaan Jeda waktu
614
Budi Suhendro dkk
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGY AKART A, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
1. Hasil pelapisan logam dengan variasi arus
Pada percobaan ini tegangan sumber dari trafo
tetap yaitu 12 volt, waktu pelapisan 30 menit,
larutan diaduk selama 10 detik. Pengubahan arus ke
beban dilakukan dengan memberikan perrubahan
tahanan variabel 0; 2,7; 5,6 dan 15 O. Hasilnya
ditunjukkan pad a Tabel 1.
Tabel 1. Hasil pelapisan logam dengan variasi arus
Rata-rata
Massa hasil pelapisan (gram)
5
(gram)
234
1
0.4225
0.4418 0.4544 0.4065 0.4249
0,43002
0.3082
0.4680 0.5105 0.4287 0.3959
0,42226
0.4517
0.2914 0.3407 0.3177 0.3866
0,35762
0.4284 0.3580 0.4189 0.3934 0.2851
0,37676
pelapisan
yang
diberikan
bertujuan
untuk
memberikan kesempatan kepada ion-ion Cu2+ untuk
menempel
kepada benda uji dan pemutaran
digunakan untuk pengisian kembali ion-ion logam
yang berkurang didekat benda kerja, mencegah
terjadinya gelembung
Arus
(amper)
3,8
2,2
1,4
0,5
Hambatan depan dipasang 2,7 0, sedangkan
waktu pelapisan dan pengadukan sarna dengan
percobaan sebelumnya yaitu waktu memvariasi
arus. Hasilnya ditunjukkan pada Tabel 2:
2. Hasil pelapisan logam dengan variasi
tegangan input
Perubahan tegangan input ke beban
dilakukan dengan mengubah tegangan sumber.
Tabel
Tegangan
trafo
12 V
18 V
25 V
2. Hasil pelapisan logam dengan variasi tegangan input
Massa hasil pelapisan (gram)
Rata-rata
1
2
3
4
5
(gram)
0.2429 0.2115 0.0807 0.0712 0.1225
0.14576
0.1919 0.1221 0.1311 0.1625 0.1043
0.14238
0.0919 0.0850 0.0542 0.0761 0.0588
0.0732
1. Hasil pelapisan logam dengan van as 1
waktu
Pada percobaan ini dipasang resistor 0 ohm,
arus ke elektrode 2.5 A, tegangan sumber 18 V dan
tegangan ujung beban rata-rata 2,65 V. Sedangkan
waktu
pengadukan
sarna dengan
percobaan
sebelumnya. Hasilnya ditunjukkan pada Tabel 3.
Massa hasil pelapisan (gram)
2430.1272
0.1144
0.1024
5 0.1040
0.2342
0.4590
0.1904
0.3594
0.4874
0.4091
0.1943
0.3521
0.19536
0.36696
0.0223
0.1139
0.1140
0.33490.3168
0.1647
0.1341
0.5346
0.3919
0.10974
Tabel3. Hasil pelapisan logam dengan variasi waktu
Rata-rata (gram)
Waktu (menit)
Pembahasan
RxCohm)
Alat yang telah dibuat 2,7
memiliki
kemampuan
15
5,6
(amper)
0
maksimal menghasilkan arus sebesar 5 A, bak
pelapisan logam mempunyai volume 41 teliter tetapi
hanya diisi kurang lebih 18 liter. Daya resistor
minimal yang diperlukan agar tidak over heat adalah
P = 12R sehingga nilai daya resistor minimal
yang harus digunakan untuk mengatur arus agar
tidak terjadi over heat adalah seperti yang
ditunjukkan pada Tabel4.
Arus
10.976
3.75
0resistor
13,086
3,8
2,2
1,4
0,5
Daya
(watt)
Hasil pelapisan yang ditunjukkan pad a Tabel 1
bila digambarkan dalam bentuk grafik adalah seperti
pada Gambar 4.
Tabel 4. Daya resistor yang digunakan
Budi Suhendro dkk
615
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
an
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGY AKART A, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
E
::
~
0,45
0,43
~
.~
OA1
0,39
.t:
0,37
Pad a proses pelapisan dengan variabel waktu
dihasilkan grafik kenaikan massa deposit seperti
yang ditunjukkan pada grafik Gambar 5.
1
!
8. 0,35
"
~
."
'go;
0,45
..
0,33
:Ji
~
0,75
a
1,5
2,25
l""
;; 0,15
3,75
Arus tamper)
~ °
E
Gambar 4.Hubungan antara massa deposit pelapisan
dan arus
.Qj
~E""c.c::
'0.
E
c. .~
'"
Ivoltl
Bi
'"
'"
'"
0,1
0,05
0,2 10
0,15
12
27
42
57
waktu pelapisan (menit)
Gambar 5. Hubungan antara massa deposit
pelapisan dan waktu pad a tegangan rata-rata
2,65 V dan arus 2,5 A
Gambar 4 di atas menunjukkan bahwa bila arus
yang digunakan
semakin besar maka massa
pelapisan yang terbentuk juga akan semakin banyak.
Pada Gambar 5 ditunjukkan grafik hasil deposit
dengan variasi tegangan input. Pada proses tersebut
terjadi penurunan deposit yang sangat drastis pada
tegangan 18 V. Hal ini terjadi karena konsentrasi
Cu2+ dalam larutan habis dan setelah itu diikuti
penurunan arus secara drastis sampai 0,11 A.
input
0.3
Dari grafik tersebut dapat diketahui bahwa
dengan proses pelapisan yang lebih lama juga akan
dihasilkan massa deposit yang lebih banyak. Berat
deposit pelapisan secara percobaan atau praktek
tersebut di atas dapat dibandingkan dengan hasil
perhitungan dengan memasukkan nilai i dan t pada
persamaan (1) dimana Ar = 63,5; n = 2 dan F =
96.500. Selisih massa deposit antara praktek dan
teoritis total untuk 5 buah sampel ditunjukkan pada
Tabel7.
25
20
15
30
Gambar 6. Hubungan massa deposit pelapisan dan
tegangan input dengan waktu pelapisan selama 30
menit
._~~
(gram)
(gram)
Massa
rumus
n
massa
Waktu
1800
1800
0.9768
Arus hasil
900
0.5487
0.1916
2.5
2.2505
1.3030
1.7520
1800
1500
2.1113
0.3660
2.1501
0.1004
0.8872
1.4806
1800
0.2961
1.1845
0.7288
0.9590
1.8838
1.5877
21,9
2.2209
0.3861
1.8348
2.9611
1.5840
1.3771
0.7403
1.5990
0.7119
0.8084
1.3860
0.8291
1.7881
0.4557
1800
0.5038
2700
3600
3,8
3,55
2,2
11,05
2,75
1,4
13,5
2,6
0,5
7,83
Tegangan
percobaa
(detik)
(amper)
beban
(volt)
Tabel 7.(gram)
Perbedaan
pelapisan total secaJ'a teoritis dan percobaan
Selisih
Massa
Variasi
Arus
Tegangan
Waktu
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
616
Budi Suhendro dkk
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
Pad a umumnya proses elektroplating dilakukan
dengan catu tegangan konstan dan arusnya yang
divariasi, karena secara teknis memvariasi arus lebih
mudah dilakukan yaitu dengan menambahkan
tahanan. Pad a Tabel
7 terlihat bahwa dengan
perubahan arus yang kecil dihasilkan deposit yang
lebih banyak dibanding dengan perubahan tegangan
yang cukup besar. Dilihat dari selisih massa an tara
perhitungan dengan percobaan yang semakin besar
untuk varisai arus yang semakin kecil menunjukkan
bahwa ion Cu2+ dalam larutan CuS04 sudah
hampir habis dan tergantikan oleh pengotor. Waktu
efektif pemakaian alat pelapisan yang dibuat
berdasarkan hasil pengujian adalah selama 5 jam
yang ditandai dengan tidak adanya lagi arus yang
mengalir ke elektrode setelah waktu tersebut
terlampaui karena .
6.
1.
Hartono, Anton J., dan Kaneko,Tomijiro, 1995,
Mengenal Pelapisan Logam, Yogyakarta
2. Hiskia, Ahmad, 1992, Elektrokimia
dan
Kinetika Kimia, Citra Aditya Bakti, Bandung
3. http://id.wikipedia.org/wiki/Elektroplating
diakses 13 Juli 2011 jam 22.13 WIB
4. Santosa, Bambang dan Syamsa, Martijanti,
2007, Pengaruh Parameter Proses Pelapisan
Nikel Terhadap Ketebalan Lapisan, Jumal
teknik mesin vol. 9, No.1, Universitas Jenderal
Achmad Yani.
5. Suarsana, I Ktut, 2008, Pengaruh Waktu
Pelapisan
Nikel
Pada
Tembaga
Dalam
Pelepisan Khrom Dekoratif Terhadap Tingkat
Kecerahan Dan Ketebalan Lapisan, Jumal
ilmiah teknik mesin cakram vol. 2, No.1,
UNUD.
6. Prayitno, Dwi, 2005, Perbedaan Berat Hasil
Pelapisan Nikel Akibat Penggunaan Lapisan
Dasar Cu Dan Tanpa Lapisan Dasar Cu
Dengan Variasi Waktu Pada Bahan Baja
Karbon Rendah, Skripsi Pendidikan Teknik
mesin/Sl, UNNES.
7. www.chem-istry.org/tabelyeriodik/alumunium!
: diakses 15
Juli 2011 jam 07:06 WIB
8. gabunganteknik. wordpress.com!2008/04/13/alu
minium! : diakses 15 Juli 2011 jam 07:06 WIB
9. httpllen.wikipedia.org/wiki/copper%28II%29_
Sulfate: diakses 15 Juli 2011 jam 07:10 WIB
10. http://id.wikipedia.org/wiki/Tembaga
: diakses
15 Juli 2011 jam 07:15 WIB
s. KESIMPULAN
1.
2.
3.
Hasil pelapisan pada Tabel 3, dalam waktu 30
menit dihasilkan massa maksimal 0,43002
gram pada arus 3,8 A. Tegangan akan
membantu proses pelapisan ketika arus mulai
menu run dibuktikan dengan arus 0,5 A dan
tegangan beban 11,02 V atau pada daya 5,5 W
dihasilkan deposit 0,37676 gram
Semakin lama waktu pelapisan akan dihasilkan
deposit pelapisan semakin banyak asalkan
masih cukup tersedia ion Cu2+ dalam larutan.
Hal
ini
dibuktikan
dengan
pelapisan
menggunakan arus 2,5 A dengan waktu 15
menit dihasilkan massa rata-rata dari 0,10974
gram, sedangkan dengan waktu 45 menit
dihasilkan deposit 0,36696 gram.
Alat yang telah dibuat dapat dipakai untuk
melapis dalam waktu 5 jam secara terus
menerus.
Budi Suhendro dkk
DAFTAR PUSTAKA
617
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN