RANCANG BANGUN DAN ANALISIS ALAT PELAPISAN TEMBAGA

SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
RANCANG BANGUN DAN ANALISIS ALAT PELAPISAN TEMBAGA
MENGGUNAKAN TEKNIK ELEKTROPLATING.
Budi Suhendro(1), Tri Laela DS (1) Suyamto(2)
(1)
(2)
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir (STTN)
Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan (PT APB)
Badan Tenaga Nuklir Nasional
Jl. Babarsari P.O.Box 6101 YKBB Yogyakarta 55281
ABSTRAK
RANCANG BANGUN DAN ANALISIS ALAT PELAPISAN TEMBAGA MENGGUNAKAN TEKNIK
ELEKTROPLATING. Elektroplating merupakan salah satu proses finishing yang digunakan untuk
menanggulangi terjadinya korosi permukaan logam karena proses oksidasi. Logam yang dilapisi adalah
Aluminium karena jumlahnya yang melimpah dan paling banyak digunakan. Elektrolit yang digunakan
adalah CuSO4 yang diencerkan dengan air dengan perbandingan 1 kg dilarutkan ke dalam air 12 liter.
Anoda dari plat tembaga dengan ukuran 6 x 30 cm, katoda digunakan sebagai barrel dengan daya tampung
6 benda kerja. Pelaksanaan pelapisan dilakukan dengan variasi arus yang diatur dengan resistor 0; 2,7, 5,6,
dan 15 Ω. Variasi tegangan dilakukan dengan mengubah step trafo 12, 18, dan 25 V, waktu pelapisan
divariasi 15; 30;, 45 dan 60 menit. Alat yang dibuat memiliki waktu pakai selama 5 jam pelapisan tanpa
henti. Dari percobaan diketahui bahwa dengan variasi arus dihasilkan deposit yang paling banyak
dibandingkan dengan varisasi tegangan, sedangkan dengan waktu yang lebih lama akan dihasilkan deposit
yang lebih banyak tergantung ketersediaan dari ion Cu 2+ di dalam larutan.
Kata kunci : Elektroplating, variasi arus, tegangan, waktu
ABSTRACT
DESIGN NAD ANALYSISN OF COPPER METAL COATING TOOL USING ELECTROPLATING
TECHNIC. Electroplating is a finishing process used to cope with the occurrence of surface corrosion due
to oxidation processes. Alumunim is a subject to be coated because they are readily available and most
widely used. Electrolytes used were 1 kg of CuSO4 dissolved into 12 liters of water. Anodes made of the
copper plate with a size of 6 x 30 cm, the cathode is used as a barrel with capacity 6 workpieces. The
implementation of the coating is done by adjusting electricity current using 0, 2.7 ohms, 5.6 ohms and 15
ohms variable resistors. Voltage variations is performed by changing the tap voltage transformer of 12, 18,
25 volt. Duration of electroplating proces is carried out by changing the coating time of 15; 30; 45 and 60
minutes. The device that have been made has a life time of 5 hours coating continously without stop. From
the experiment it is known that by current variation obtined the most widely deposits compared with
varisasi voltage, whereas with a longer time will be got more deposit depending on the availability
2+
of Cu ions in solution.
Key word : Electroplating, current, voltage, time variations
finishing terutama untuk logam-logam yang mudah
mengalami korosi. Salah satu teknik finishing dan
teknik penanggulangan korosi adalah dengan teknik
elektroplating. Diharapkan dengan dipakainya
teknik elektroplating kekuatan dan ketahanan
material terhadap korosi akan bertambah. Manfaat
lain dari teknik elektroplating adalah masalah
estetika dan harga jual dari logam yang telah di lapis
akan menjadi lebih baik. Dalam percobaan um yang
sering dilakukan, pelapisan logam dilakukan dengan
1. PENDAHULUAN
Pada pemakaian logam sering timbul masalah
seperti korosi, kurang menarik, kurang kuat dan
sebagainya. Tetapi yang paling menonjol adalah
masalah korosi. Hal ini terjadi karena adanya proses
oksidasi antara logam yang digunakan baik di
lingkungan yang lembab, panas dan air asin. Bila
korosi timbul dapat menjadikan kekuatan logam
yang dipakai melemah. Untuk itu banyak dilakukan
Budi Suhendro dkk
611
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
sangat
sederhana
salah
satunya
dengan
menggunakan sumber tegangan dari baterai dan
dirasa kurang efektif karena umur pakai yang terlalu
singkat, tegangannya tidak dapat diatur dan dayanya
terbatas. Dengan demikian pemakaian sumber
tegangan bolak-balik dari PLN untuk catu daya
elektroplating sangat diperlukan karena akan lebih
efektif. Salah satu tujuan dari “Rancang Bangun dan
Analisis Alat Pelapisan Tembaga Menggunakan
Teknik Elektroplating” adalah untuk mengetahui
hubungan antara hasil pelapisan dengan tegangan,
arus dan waktu pelapisan yang diberikan.
Peralatan yang dirancang menggunakan catu
daya arus bolak-balik (AC) kemudian DC, larutan
pelapis yang digunakan adalah Tembaga Sulfat
(CuSO4) teknis, dan pengujian dilakukan dengan
memvariasikan tegangan, arus, dan waktu.
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
Pelapisan secara listrik atau elektroplating
adalah elektrodeposisi pelapisan (coating) logam
melekat ke elektroda untuk menjaga substrat dengan
memberikan sifat dan dimensi berbeda dari pada
logam basisnya [1]. Pada sistem elektrokimia cairan
elektrolit bila diberi tegangan akan terjadi elektrolisa
dan ion–ion akan bergerak menuju elektrode. Kation
akan menuju katoda sedangkan anion menuju anoda.
Hukum yang berkaitan dengan massa yang
terbnetuk dalam elektroplating adalah[1, 2] :
1. Hukum Faraday I
Pada hukum Faraday tersebut dijelaskan
bahwa massa zat yang terbentuk pada masingmasing elektroda sebanding dengan kuat
arus/arus listrik yang mengalir pada elektrolisis
tersebut [2]. Secara matematis dapat ditulis
sebagai Persamaan (1).
m
2. DASAR TEORI
Ar q eit

nF
F
(1)
Gambar 1. Skema pelapisan secara elektroplating
Faktor-faktor yang Mempengaruhi Keberhasilan
Keandalan Elektroplating [4]
Banyak faktor yang mempengaruhi keandalan
elektroplating antara lain adalah suhu larutan saat
proses, arus yang mengalir pada elektrode,
konsentrasi larutan, agitasi, nilai pH larutan,
pasivitas, dan lamanya pelapisan.
Suhu larutan pada saat pelapisan berlangsung
harus dijaga stabil agar pelapisan dapat lebih
sempurna karena bila suhu naik terlalu tinggi akan
menyebabkan naiknya konduktifitas dan difusitas
larutan elektrolit. Akibatnya adalah tahanan
elektrolit akan mengecil sehingga kemampuan untuk
mereduksi ion-ion logam berkurang. Besarnay suhu
larutan saat proses ditentukan oleh beberapa faktor
antara lain jarak anoda dan katoda dan arus yang
digunakan.
Kerapatan arus ke elektroda sangat
mempengaruhi lama pelapisan sampai ketebalan
tertentu. Arus listrik diperlukan untuk mendapatkan
atom-atom logam pada tiap satuan luas permukaan
benda kerja yang akan dilapis.
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
Konsentrasi
ion
di
dalam
larutan
mempengaruhi mobilitas ion dan konduktivitas
larutan juga.
Agitasi adalah proses pengadukan yang
dimaksudkan untuk menghindari bentuk struktur
dan ketebalan lapisan yang tidak seragam. Di
samping itu juga bertujuan untuk pengisian kembali
ion-ion logam yang berkurang di dekat katoda atau
benda kerja, mencegah terjadinya gelembung udara
pada bagian permukaan benda kerja.
Nilai pH diperlukan untuk mengontrol larutan
elektroplating.agar kemampuan larutan elektrolit
dalam menghasilkan lapisan tetap baik.
Pasivitas merupakan lapisan pasif pengotor
pada logam seperti korosi dan minyak yang
menempel pada logam dan bila terdapat pada anoda,
ion-ion logam pelapis terus menurun sehingga akan
mengganggu proses pelapisan.
Waktu pelapisan sangat mempengaruhi
ketebalan lapisan yang diinginkan, semakin lama
waktu pelapisan akan dihasilkan lapisan yang
semakin tebal [4, 5].
612
Budi Suhendro dkk
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
Bahan Pelapis Dalam Proses Elektroplating
Tembaga
banyak
digunakan
untuk
pelapisan karena dapat menutup permukaan bahan
yang dilapis dengan baik dan mempunyai daya
tembus yang tinggi. Namun pelapisan dengan
tembaga pada umumnya masih belum memuaskan
sehingga diperlukan pelapisan lanjut menggunakan
bahan nikel, kemudian dilakukan pelapisan akhir
menggunakan khrom. [4].
transformator
3. PEMBUATAN ALAT DAN METODOLOGI
PENGUJIAN
3.1 Pembuatanan alat
Perlatan pada penelitian ini terdiri dari 3
bagian yaitu bagian catu daya, beban pelapisan dan
alat penunjang. Catu daya yang digunakan
ditunjukkan pada blok diagram Gambar 2,
sedangkan rangkaian ditujukkan pada Gambar 3 dan
4
penyearah
stabiliser
Gambar 2.Blok diagram catu daya
variabel
resistor
Gambar 3. Catu daya dengan stabiliser IC 7812
Gambar 3. Catu daya dengan stabiliser dari transistor
Catu daya pada Gambar 3 menggunakan
stabiliser IC 7812 untuk mencatu rangkaian pewaktu
(timer) dan motor penggerak agitator (barrel),
sedangkan pada Gambar 4 digunakan stabiliser
transistor untuk mencatu beban pelapisan yang
memerlukan arus besar yaitu 0 sampai dengan 10
amper.
Variabel resistor digunakan untuk mengatur
arus yang masuk ke beban yang dalam enelitian ini
ditentukan 4 buah yaitu R0 (0 Ω/0 watt), R1 (2,7 Ω
/10 watt), R2 (5,6 Ω /20 watt) dan R4 (15 Ω/20 watt.
Beban pelapisan berupa plat anoda dan
katoda yang diletakkan di dalam bak penampung
larutan elektrolit dengan volume total dari bak
pelapisan tersebut adalah 41 liter dan alat penunjang
yang terdiri dari pengaduk, pewaktu, pemanas, dan
Budi Suhendro dkk
alat ukur. Dalam rancangan ini bahan anoda dari
tembaga karena mempunyai konduktivitas yang baik
dengan ukuran 30 x 6 cm. Sebagai katoda dibuat
dari aluminium (Al) karena beberapa pertimbangan
antara lain karena sebagi penghantar listrik dan
panas yang baik, ringan, tidak bersifat magnetik,
mudah dibentuk, banyak dipakai untuk berbagai
keperluan, tahan korosi, banyak terdapat di pasaran,
harganya murah dan sebagainya. Katoda Al dibuat
dengan ukuran 2 x 7 cm sebanyak 5 buah diikat
pada barrel atau pengaduk. Sebagai bahan pelapis
digunakan larutan asam sulfat yang diencerkan
dengan konsentrasi 1 kg dalam 12 liter air
(CuSO45H2O), dan bak pelapisan berikut
pengaduknya (barrel) ditunjukkan pada Gambar 5.
613
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
(a)
(b)
Gambar 5. (a) Bak pelapis dan (b) Barrel
Alat penunjang antara lain terdiri dari
pewaktu (timer), pemanas (heater) serta alat ukur
tegangan dan arus. Untuk pewaktu digunakan
Omron H3BA-8 dan untuk pembatas suhu
digunakan termostat KSD 302 250V/10A, lihat
Gambar 6.
(a)
(b)
Gambar 6. (a) Pewaktu Omron H3BA-8, (b) Termostat KSD 302 250V/10A
3.2 Metode Percobaan
Dalam penelitian ini, setelah perangkat keras selesai
dibuat dilakukan langkah-langkah percobaan
sebagai berikut :
1. Persiapan bahan yang akan dilapis meliputi
pemotongan bahan Al yang akan dilapis,
pemolesan, penimbangan bahan dan
pembersian secara kimiawi dengan dicelum
ke dalam asam nitrat
2. Proses elektroplating menggunakan asam
sulfat yang telah diencerkan kemudian,
dilakukan pencatuan daya ke elektode
dengan mevariasi arus, tegangan dan
waktu.
a. Variasi arus dilakukan dengan
mengubah nilai resistor pada tegangan
tetap sebesar 18 V dan waktu
pelapisan 30 menit.
b. Variasi tegangan dilakukan dengan
mengubah tap tegangan keluaran trafo
dari 12, 18, 25, dan 32 V dan waktu
pelapisan tetap yaitu 30 menit.
c. Variasi waktu pelapisan dilakukan
dengan waktu pelapisan 15, 30, 45,
dan
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
3.
d. udara pada bagian permukaan benda kerja,
dan menghindari penumpukan 60 menit
pada tegangan dan arus tetap yaitu 18 V
dan 2,5 amper.
Pada setiap kali satu percobaan pelapisan
selesai, harus diberi jeda waktu sebelum
dilakukan percobaan berikutnya. Hal ini
bertujuan untuk memberikan kesempatan
kepada ion-ion Cu2+ menempel kepada benda
uji, agar terjadi pengisian kembali ion-ion
logam yang berkurang di dekat bendua kerja,
mencegah terjadinya gelembung udara pada
bagian
permukaan
benda
kerja,
dan
menghindari penumpukan ion-ion logam dalam
larutan.ion-ion logam dalam larutan sehingga
konsentrasi ion dapat tersebar secara merata.
Tahap akhir yaitu pencucian, pengeringan. dan
penimbangan bahan
4. HASIL DAN PEMBAHASAN
Peralatan yang dibuat dapat dioperasikan
dengan baik, hasil pengujian meliputi 3 hal yaitu
pengujian dengan variasi arus, tegangan, dan waktu.
Pada setiap percabaan percobaan Jeda waktu
614
Budi Suhendro dkk
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
pelapisan yang diberikan bertujuan untuk
memberikan kesempatan kepada ion-ion Cu2+ untuk
menempel kepada benda uji dan pemutaran
digunakan untuk pengisian kembali ion-ion logam
yang berkurang didekat benda kerja, mencegah
terjadinya gelembung
Arus
(amper)
3,8
2,2
1,4
0,5
1. Hasil pelapisan logam dengan variasi arus
Pada percobaan ini tegangan sumber dari trafo
tetap yaitu 12 volt, waktu pelapisan 30 menit,
larutan diaduk selama 10 detik. Pengubahan arus ke
beban dilakukan dengan memberikan perrubahan
tahanan variabel 0; 2,7; 5,6 dan 15 Ω. Hasilnya
ditunjukkan pada Tabel 1.
Tabel 1. Hasil pelapisan logam dengan variasi arus
Massa hasil pelapisan (gram)
Rata-rata
(gram)
1
2
3
4
5
0.4418 0.4544 0.4065 0.4249 0.4225
0,43002
0.4680 0.5105 0.4287 0.3959 0.3082
0,42226
0.2914 0.3407 0.3177 0.3866 0.4517
0,35762
0.4284 0.3580 0.4189 0.3934 0.2851
0,37676
Hambatan depan dipasang 2,7 Ω, sedangkan
waktu pelapisan dan pengadukan sama dengan
percobaan sebelumnya yaitu waktu memvariasi
arus. Hasilnya ditunjukkan pada Tabel 2:
2. Hasil pelapisan logam dengan variasi
tegangan input
Perubahan tegangan input ke beban
dilakukan dengan mengubah tegangan sumber.
Tabel 2. Hasil pelapisan logam dengan variasi tegangan input
Massa hasil pelapisan (gram)
Tegangan
Rata-rata
trafo
(gram)
1
2
3
4
5
12 V
0.2429 0.2115 0.0807 0.0712 0.1225
0.14576
18 V
0.1919 0.1221 0.1311 0.1625 0.1043
0.14238
25 V
0.0919 0.0850 0.0542 0.0761 0.0588
0.0732
1. Hasil pelapisan logam dengan variasi
waktu
Pada percobaan ini dipasang resistor 0 ohm,
arus ke elektrode 2.5 A, tegangan sumber 18 V dan
tegangan ujung beban rata-rata 2,65 V. Sedangkan
waktu pengadukan sama dengan percobaan
sebelumnya. Hasilnya ditunjukkan pada Tabel 3.
Tabel3. Hasil pelapisan logam dengan variasi waktu
Massa hasil pelapisan (gram)
Waktu (menit)
Rata-rata (gram)
1
2
3
4
5
15
0.1040 0.1140 0.1139 0.1024 0.1144
0.10974
30
0.1341 0.1272 0.0223 0.4590 0.2342
0.19536
45
0.3919 0.3521 0.1943 0.4091 0.4874
0.36696
60
0.5346 0.3594 0.1904 0.1647 0.3349
0.3168
Pembahasan
Alat yang telah dibuat memiliki kemampuan
maksimal menghasilkan arus sebesar 5 A, bak
pelapisan logam mempunyai volume 41 teliter tetapi
hanya diisi kurang lebih 18 liter. Daya resistor
minimal yang diperlukan agar tidak over heat adalah
P  I 2 R sehingga nilai daya resistor minimal
yang harus digunakan untuk mengatur arus agar
tidak terjadi over heat adalah seperti yang
ditunjukkan pada Tabel 4.
Rx(ohm)
Arus
(amper)
Daya resistor
(watt)
0
2,7
5,6
15
3,8
2,2
1,4
0,5
0
13,086
10.976
3.75
Hasil pelapisan yang ditunjukkan pada Tabel 1
bila digambarkan dalam bentuk grafik adalah seperti
pada Gambar 4.
Tabel 4. Daya resistor yang digunakan
Budi Suhendro dkk
615
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
Pada proses pelapisan dengan variabel waktu
dihasilkan grafik kenaikan massa deposit seperti
yang ditunjukkan pada grafik Gambar 5.
Gambar 4.Hubungan antara massa deposit pelapisan
dan arus
Gambar 5. Hubungan antara massa deposit
pelapisan dan waktu pada tegangan rata-rata
2,65 V dan arus 2,5 A
Gambar 4 di atas menunjukkan bahwa bila arus
yang digunakan semakin besar maka massa
pelapisan yang terbentuk juga akan semakin banyak.
Pada Gambar 5 ditunjukkan grafik hasil deposit
dengan variasi tegangan input. Pada proses tersebut
terjadi penurunan deposit yang sangat drastis pada
tegangan 18 V. Hal ini terjadi karena konsentrasi
Cu2+ dalam larutan habis dan setelah itu diikuti
penurunan arus secara drastis sampai 0,11 A.
Dari grafik tersebut dapat diketahui bahwa
dengan proses pelapisan yang lebih lama juga akan
dihasilkan massa deposit yang lebih banyak. Berat
deposit pelapisan secara percobaan atau praktek
tersebut di atas dapat dibandingkan dengan hasil
perhitungan dengan memasukkan nilai i dan t pada
persamaan (1) dimana Ar = 63,5; n = 2 dan F =
96.500. Selisih massa deposit antara praktek dan
teoritis total untuk 5 buah sampel ditunjukkan pada
Tabel 7.
Gambar 6. Hubungan massa deposit pelapisan dan
tegangan input dengan waktu pelapisan selama 30
menit
Variasi
Arus
Tabel 7. Perbedaan hasil pelapisan total secara teoritis dan percobaan
Massa
Massa
Tegangan
Tegangan
Arus
Waktu
percobaa
rumus
trafo (volt)
beban (volt)
(amper)
(detik)
n
(gram)
(gram)
12
1,9
3,8
1800
2.2505
2.1501
7,3
2,2
1800
1.3030
2.1113
8,77
1,4
1800
0.8291
1.7881
11,2
0,5
1800
0.2961
1.8838
Selisih
massa
(gram)
0.1004
0.8084
0.9590
1.5877
Tegangan
12
18
25
7,83
11,05
13,5
2
2,75
3,55
1800
1800
1500
1.1845
1.5990
1.7520
0.7288
0.7119
0.3660
0.4557
0.8872
1.3860
Waktu
18
2,6
2,67
2,7
2,77
2.5
900
1800
2700
3600
0.7403
1.4806
2.2209
2.9611
0.5487
0.9768
1.8348
1.5840
0.1916
0.5038
0.3861
1.3771
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN
616
Budi Suhendro dkk
SEMINAR NASIONAL
SDM TEKNOLOGI NUKLIR VII
YOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011
ISSN 1978-0176
Pada umumnya proses elektroplating dilakukan
dengan catu tegangan konstan dan arusnya yang
divariasi, karena secara teknis memvariasi arus lebih
mudah dilakukan yaitu dengan menambahkan
tahanan. Pada Tabel 7 terlihat bahwa dengan
perubahan arus yang kecil dihasilkan deposit yang
lebih banyak dibanding dengan perubahan tegangan
yang cukup besar. Dilihat dari selisih massa antara
perhitungan dengan percobaan yang semakin besar
untuk varisai arus yang semakin kecil menunjukkan
bahwa ion Cu2+ dalam larutan CuSO4 sudah
hampir habis dan tergantikan oleh pengotor. Waktu
efektif pemakaian alat pelapisan yang dibuat
berdasarkan hasil pengujian adalah selama 5 jam
yang ditandai dengan tidak adanya lagi arus yang
mengalir ke elektrode setelah waktu tersebut
terlampaui karena .
6.
1.
Hartono, Anton J., dan Kaneko,Tomijiro, 1995,
Mengenal Pelapisan Logam, Yogyakarta
2. Hiskia, Ahmad, 1992, Elektrokimia dan
Kinetika Kimia, Citra Aditya Bakti, Bandung
3. http://id.wikipedia.org/wiki/Elektroplating
:
diakses 13 Juli 2011 jam 22.13 WIB
4. Santosa, Bambang dan Syamsa, Martijanti,
2007, Pengaruh Parameter Proses Pelapisan
Nikel Terhadap Ketebalan Lapisan, Jurnal
teknik mesin vol. 9, No. 1, Universitas Jenderal
Achmad Yani.
5. Suarsana, I Ktut, 2008, Pengaruh Waktu
Pelapisan Nikel Pada Tembaga Dalam
Pelepisan Khrom Dekoratif Terhadap Tingkat
Kecerahan Dan Ketebalan Lapisan, Jurnal
ilmiah teknik mesin cakram vol. 2, No. 1,
UNUD.
6. Prayitno, Dwi, 2005, Perbedaan Berat Hasil
Pelapisan Nikel Akibat Penggunaan Lapisan
Dasar Cu Dan Tanpa Lapisan Dasar Cu
Dengan Variasi Waktu Pada Bahan Baja
Karbon Rendah, Skripsi Pendidikan Teknik
mesin/S1, UNNES.
7. www.chem-istry.org/tabel_periodik/alumunium/ : diakses 15
Juli 2011 jam 07:06 WIB
8. gabunganteknik.wordpress.com/2008/04/13/alu
minium/ : diakses 15 Juli 2011 jam 07:06 WIB
9. http//en.wikipedia.org/wiki/copper%28II%29_
Sulfate : diakses 15 Juli 2011 jam 07:10 WIB
10. http://id.wikipedia.org/wiki/Tembaga : diakses
15 Juli 2011 jam 07:15 WIB
5. KESIMPULAN
1.
2.
3.
Hasil pelapisan pada Tabel 3, dalam waktu 30
menit dihasilkan massa maksimal 0,43002
gram pada arus 3,8 A. Tegangan akan
membantu proses pelapisan ketika arus mulai
menurun dibuktikan dengan arus 0,5 A dan
tegangan beban 11,02 V atau pada daya 5,5 W
dihasilkan deposit 0,37676 gram
Semakin lama waktu pelapisan akan dihasilkan
deposit pelapisan semakin banyak asalkan
masih cukup tersedia ion Cu2+ dalam larutan.
Hal ini dibuktikan dengan pelapisan
menggunakan arus 2,5 A dengan waktu 15
menit dihasilkan massa rata-rata dari 0,10974
gram, sedangkan dengan waktu 45 menit
dihasilkan deposit 0,36696 gram.
Alat yang telah dibuat dapat dipakai untuk
melapis dalam waktu 5 jam secara terus
menerus.
Budi Suhendro dkk
DAFTAR PUSTAKA
617
Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN