skripsi.unnes.ac.id

M. SULHAN, 4250405002
Pengaruh Daya Plasma Terhadap
Struktur Mikro, Sifat Listrik dan
Sifat Optik Film Tipis Cadmium
Sulfida yang Ditumbuhkan dengan
Metode DC Magnetron Sputtering
Identitas Mahasiswa
- NAMA : M. SULHAN
- NIM : 4250405002
- PRODI : Fisika
- JURUSAN : Fisika
- FAKULTAS : Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam
- EMAIL : ihsansulhan pada domain yahoo.com
- PEMBIMBING 1 : Dr. Sugianto, M.Si.
- PEMBIMBING 2 : Dr. Ngurah Made Darma Putra, M.Si.
- TGL UJIAN : 2009-09-15
Judul
Pengaruh Daya Plasma Terhadap Struktur
Mikro, Sifat Listrik dan Sifat Optik Film
Tipis Cadmium Sulfida yang Ditumbuhkan
dengan Metode DC Magnetron Sputtering
Abstrak
II-VI yang ditemukan karena kebutuhan akan material semikonduktor. CdS
memiliki energy gap 2,4 eV pada suhu ruang, dan mempunyai struktur kristal
heksagonal dengan tipe kristal wurtzite, transparansi optik pada daerah tampak,
sehingga banyak diaplikasikan dalam pembuatan berbagai peralatan diantaranya
transparent conducting oxide (TCO), tranduser surface acoustic wave (SAW),
pandu gelombang optik, LED, dan yang baru diteliti dan dikembangkan saat ini
adalah sebagai devais sel surya.
Permasalahan yang dikaji dalam penelitian ini adalah struktur mikro, sifat
optik, dan sifat listrik lapisan tipis CdS yang ditumbuhkan diatas substrat corning
glass dengan metode dc magnetron sputtering dengan variasi daya plasma. Hasil
karekterisasi dan analisis SEM (Scanning Electron Microscopy) menunjukkan
lapisan tipis CdS yang ditumbuhkan dengan daya plasma 17.15 W memiliki
ukuran bulir yang lebih kecil dibandingkan dengan lapisan tipis yang
ditumbuhkan pada daya plasma 22 W. Hasil analisis XRD menunjukan bahwa
lapisan CdS yang ditumbuhkan pada daya plsama 17,15 W belum muncul puncak,
sedangkan pada parameter 22 W muncul puncak di 2θ 15,15 o dengan orientasi
kristal (102). Analisis sifat optik (transmitansi) lapisan tipis CdS yang
ditumbuhkan pada daya plasma 17.15 memiliki lebar pita 3.40 eV, sedangkan
untuk lapisan tipis CdS yang ditumbuhkan pada daya plasma 22 W mempunyai
Kata Kunci
dc magnetron sputtering, daya plasma, sifat listrik, sifat optik,
struktur mikro, CdS
Referensi
A. Podesta, N. Armani, G. Salviati, N.Romeo, A.Bosio,M. Prato. 2006. Influence
of The Flourine Doping on The OpticalProperties Of CdS Thin Film
For Photovoltaic. Elsevier Thin Solid Film. 511-512. h:448-452.
Beiser, Arthur. 1981. Konsep Fisika Modern (terjemahan). Bandung: PT Gelora
Angkasa Pratama.
Compaan,Alvin D Gupta. Akhlesh, Lee. Sunghyun, Wang. Shanli, Drayton.
Jennifer.2004. High Efficiency, Magnetron Sputtered CdS/CdTe
Solar Cells. Elsevier solar energy. 77 h: 815-822
Fraden,Jacob. 1996. Handbook Of Modern Sensor. New York ;United Book Press
Hai-Ning Chui dan Shi-Quan Shi. 1996. The Fabrication Of Dipped and
Sputtered ITO Thin Film For Photovoltaic Solar Cell. Elsevier
Thin Solid Film 288. h: 325-329.
Hirose,Akira dan Longren, Karl E.1984. Introduction Wave Phenomena. New
York: John Wiley & Sons.
Kumar, Kiran Ch., Hoa, Nguyen Thi Quynh, Yoon , Soon-Gil, Kim, Eui-Tea.
2009. Highly Photoconductive CdS Thin Film Synthesized by Using
Chemical Bath Deposition. Journal of The Korean Physical Society.
Vol. 55, No. 1, h:284-287.
Lawarence, H Robins, Jeremiah R. Lowney, and Dennis K. Wickenden. 1998.
Terima Kasih
http://unnes.ac.id